치석지수(CI)의 채점 기준에서 '치은연하에 위치한 치석'이 평가되는 점수는?

CI 채점 기준에서 2점은 '치은연상 치석이 치면의 3분의 1 이하를 덮고 있거나, 치은연하에 치석이 촉진되는 경우'이다.

치위생 핵심 해설 이 문제는 치석지수(CI, Calculus Index)의 채점 기준을 정확히 이해하고 있는지 묻는 문제예요. 치석지수는 환자의 구강 위생 상태를 평가하고, 스케일링(Scaling)의 필요성과 난이도를 판단하는 데 필수적인 지표 중 하나입니다. 핵심 개념 분석 (Key Concept) 문제에서 제시된 조건은 "한 치아의 협측 또는 설측 면에서 치은연상 치석(Supragingival calculus)이 치면의 3분의 1 이하를 덮고 있고, 치은연하 치석(Subgingival calculus)이 촉진된다"입니다. 이는 치석지수 채점 기준 중 2점에 해당하는 조건이에요. 핵심! 치석지수는 치은연상 치석의 양과 치은연하 치석의 존재 유무를 종합하여 점수를 매기는데, 치은연하 치석이 존재하기만 해도 최소 2점부터 시작합니다. 정답 근거 (Answer Rationale) 치석지수(CI)의 채점 기준은 다음과 같아요.
0점: 치석이 없음.
1점: 치은연상 치석이 치면의 3분의 1 이하를 덮고 있음.
2점: 치은연상 치석이 치면의 3분의 1 이하를 덮고 있거나, 치은연하에 치석이 촉진됨.
3점: 치은연상 치석이 치면의 3분의 1 이상, 3분의 2 이하를 덮고 있음.
4점: 치은연상 치석이 치면의 3분의 2 이상을 덮고 있음. 문제의 조건은 '치은연상 치석이 1/3 이하'라는 1점 조건과 '치은연하 치석이 촉진된다'는 조건이 동시에 충족되었어요. 채점 기준에서 '또는(or)'으로 연결된 2점 조건에 완벽히 부합하므로 정답은 2점입니다. 연관개념정리 (Related Concepts) 치석지수는 OHI-S(단순구강위생지수, Simplified Oral Hygiene Index)의 구성 요소 중 하나예요. OHI-S는 치면세균막지수(DI, Debris Index)와 치석지수(CI)를 합산한 지수로, 환자의 구강 청결 상태를 종합적으로 평가합니다. 치은연하 치석은 탐침(Probe)이나 치과용 거울(Mirror)로는 직접 보이지 않아 탐침을 이용한 촉진(Palpation)이나 방사선 사진에서 확인해야 하므로, 그 존재만으로도 구강 관리와 전문가적 중재가 필요함을 의미해요. 개념 정리 치석지수(CI) 채점 기준

• 0: No calculus.
• 1: Supragingival calculus covering not more than 1/3 of the tooth surface.
• 2: Supragingival calculus covering not more than 1/3 of the tooth surface OR presence of subgingival calculus.
• 3: Supragingival calculus covering more than 1/3 but not more than 2/3 of the tooth surface.
• 4: Supragingival calculus covering more than 2/3 of the tooth surface.

한눈에 비교! 혼동 주의! 치면세균막지수(DI)와 치석지수(CI)는 OHI-S를 구성하는 쌍둥이 지수지만, 평가 대상이 다릅니다.
치면세균막지수(DI): 연한 치면세균막(Soft debris)과 식이 잔사(Food debris)를 평가.
치석지수(CI): 경화된 치석(Calculus)을 평가. 치은연하 치석의 존재가 중요한 평가 기준. 암기 팁 "치은 아래(Subgingival)만 있어도 2점은 기본!"이라고 외우세요. 치은연하 치석은 더 깊은 곳에 위치해 제거가 어렵고 치주 건강에 직접적인 위협이 되므로, 그 존재 자체로 점수가 높게 평가된다는 점을 이해하면 쉽게 기억할 수 있어요. 국시 빈출 포인트 치석지수(CI)의 채점 기준, 특히 2점 조건("치은연상 1/3 이하 또는 치은연하 치석 존재")은 매년 출제될 정도로 중요해요. '또는(or)'이라는 연결어를 정확히 이해하고, 두 조건 중 하나만 충족해도 2점이 된다는 점을 꼭 기억하세요. 기출 변형 주의! "치은연상 치석이 없지만 치은연하 치석이 촉진되는 경우 몇 점인가?" 또는 "OHI-S를 구성하는 두 지수의 이름은?"과 같은 방식으로도 출제될 수 있어요. 기본 개념을 탄탄히 다져두면 어떤 변형에도 대응할 수 있습니다.

치위생 임상 실무 가이드 임상 시나리오 (Clinical Scenario) 50대 여성 환자가 정기 검진을 위해 내원했습니다. 환자는 평소 칫솔질을 꼼꼼히 한다고 말하지만, 구강검사 시 하악 전치부 설측과 상악 구치부 협측에서 다량의 치은연상 치석과 함께, 탐침으로 촉진 시 여러 부위에서 치은연하 치석이 느껴집니다. 이 환자의 구강 위생 상태를 객관적으로 기록하고 치료 계획을 수립해야 합니다. 치위생 중재 전략 (DH Intervention) 1. 사정(Assessment): OHI-S 측정을 시행합니다. 표본 치아(보통 #3, #8, #14, #19, #24, #30)의 협측과 설측 면을 각각 관찰 및 촉진하여 DI와 CI 점수를 매기고 합산합니다. 이 환자의 경우 치은연하 치석이 존재하므로 해당 치아 면의 CI 점수는 최소 2점 이상이 될 것입니다. 2. 진단 및 계획(Planning): 높은 CI 점수는 전문적인 스케일링(Scaling)과 치근활택술(Root planing)이 필요함을 나타냅니다. 특히 치은연하 치석 제거를 위한 계획을 세웁니다. 3. 수행(Implementation): 핵심! 치은연하 치석 제거에는 그레이시 큐렛(Gracey curette)과 같은 치근활택용 기구나 초음파 스케일러(Ultrasonic scaler)의 치근활택 팁을 사용합니다. 치은연하 작업 시 출혈과 통증을 최소화하기 위해 국소마취를 고려할 수 있습니다. 4. 평가(Evaluation): 치료 4~6주 후 재평가 시, 치은 염증과 탐침시 출혈(BOP)이 감소했는지, 그리고 치석지수(CI) 점수가 개선되었는지 확인합니다. 환자 안전 및 주의사항 (Precautions) 치은연하 스케일링 시 과도한 힘을 주거나 반복적인 동작으로 인해 치아 시멘트질(Cementum)을 과도하게 제거하지 않도록 주의해야 합니다. 또한, 심장판막 질환 등 전신질환이 있는 환자의 경우, 치료 전 예방적 항생제 투여 필요 여부를 반드시 확인해야 합니다. 치위생 중재 프로토콜 OHI-S 측정 및 기록 프로토콜 1. 장갑을 착용하고 멸균된 탐침과 치과용 거울을 준비한다. 2. 6개의 표본 치아(#3, #8, #14, #19, #24, #30)를 확인한다. 3. 각 치아의 협측과 설측 면을 관찰하고 탐침으로 촉진하여 DI와 CI 점수를 각각 부여한다. 4. 각 지수별로 6개 치아, 12개 면의 점수를 합산한 후 12로 나누어 평균 점수를 계산한다. 5. DI 평균과 CI 평균을 합하여 OHI-S 총점을 산출한다. (예: DI=1.2, CI=1.8 → OHI-S=3.0) 선배 치과위생사의 한마디 "치석지수는 단순한 점수가 아니에요. 그 점수 뒤에는 환자에게 필요한 구체적인 치료의 깊이와 범위가 숨어 있습니다. '치은연하 치석=2점'이라는 기준을 외우는 것도 중요하지만, 왜 그렇게 평가되는지, 임상적으로 어떤 의미를 가지는지를 생각하며 공부하면 지식이 머릿속에 훨씬 오래 남아요. 환자의 구강을 보면 자연스럽게 '이 부위는 CI가 몇 점일까?'라고 평가하는 습관을 들여보세요!"