근관충전의 일차 목표는 세균 불투과성 및 액체 불투과성 밀폐를 형성하는 것입니다. 세척·성형 후에도 근관계 내에 잔존할 수 있는 미생물을 가두고(entombing), 외부에서 새로운 세균이 유입되는 것을 차단해야 합니다.
충전재는 근관계 내부를 3차원적으로 밀폐하되, 치근단 경계는 유지해야 합니다. 치근단공을 통한 과충전(overfilling)은 치근단 조직에 이물 반응과 염증을 유발하므로 피해야 합니다.
대표적인 충전 기법으로는 측방가압법, 열연화 충전법, 단일 콘법 등이 있습니다. 기법마다 근관 벽과 실러의 적합도나 미세누출 양상에 차이가 있을 수 있으나, 모든 기법의 공통된 목표는 근관계를 밀폐하여 세균의 재침입을 막는 것입니다.
미세누출(microbial leakage)은 세균이 근관계로 들어가는 통로가 되어 근관치료 실패의 주요 원인이 됩니다. 충전 후 방사선 사진에서 빈 공간(void)이 관찰되면 즉시 재충전을 고려해야 합니다.
학습 참고용입니다. 실제 임상은 최신 지침과 소속 기관 프로토콜을 따르세요.